Vacuum magnetron sputtering technique o le faʻaogaina lea o le fafine, bipolar electrode surface ma le maneta o le eletise i le cathode luga o le tafe, e ala i le faʻatulagaina o le faʻaogaina o le eletise eletise e faʻatatau i le maneta, o le eletise e faʻateleina le stroke, faʻateleina le fua o le ionization o le kesi, ae o le maualuga-malosi particles kasa ma leiloa le malosi ina ua uma le fetoaiga ma o lea e maualalo substrate vevela, ufiufi atoatoa i luga o se mea e le o le vevela.